真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛應用于光學、電子學、能源開發(fā)、理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及束外延等。
? ? ? ?可以對珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜，以及采用濺射鍍或離子鍍對刀具、模具等制造超硬膜。近兩年內(nèi)所興起的多孤離子鍍制備鈦金制品，如不銹鋼薄板、鏡面板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄桿等目前正在盛行。
? ? ? ?真空蒸發(fā)鍍是利用膜材加熱裝置的熱能，在真空條件下，是膜材原子靠熱運動而逸出膜材表面，并沉積到基片表面上去的一種沉積技術。然而在近年來這種技術又與離子摻入發(fā)相結合，擋具有一定動能的離子入射到用膜材所做的靶子表面上去以后，可將靶材原子擊出而產(chǎn)生離子濺射效應。這時如果將基片放置到靶的附近，被濺射出來的靶材原子就會沉積到基片的表面上形成薄膜，這就是真空濺射鍍膜技術。
? ? ? ?以應用最廣的真空蒸鍍鋁膜為例；其原理是在真空中將蒸鍍材料加熱蒸發(fā)產(chǎn)生蒸氣，使其附著在基板上凝聚成薄膜。在兩塊玻璃上鍍制高反射鍍膜，整個光譜區(qū)域都有較高的反射率，對光的入射角和偏振態(tài)不敏感，成本低，易于蒸發(fā)，與玻璃的結合力強。

???????真空鍍鋁膜在生產(chǎn)過程中鍍膜均勻性非常重要，鍍膜層的厚度決定了鍍膜產(chǎn)品的品質(zhì)。隨著科技的進步和精密儀器的應用，薄膜厚度測量方法有很多，其中最直接的方法是使用光密度在線測試儀測量，通過光接觸直接感應出薄膜的透光率或者光密度。利用光密度與鍍層厚度一定的比例關系，來檢測鍍層厚度的均勻性。
? ? ? ?真空鍍鋁膜的缺點是不耐久，鋁膜材質(zhì)較軟而容易氧化，反射率相對較低。通常用于背反射膜，當用于前反射膜時，一般其表面必須鍍上保護膜。也可以鍍上金屬或非金屬膜來提高在特定波長的反射率。
? ? ? ?真空鍍膜的原理比較簡單，但具體生產(chǎn)過程中很多注意事項。另外由于鍍膜非常薄，要求的工藝也比較高，除了注意真空室外還需要較多的輔助裝置，如膜厚度在線檢測裝置、清洗裝置、冷卻裝置等等。